نقد و بررسی
شیشه شات ۴ اینچفتوماسک شیشه شات با دو پوشش فتورزیست و کروم این امکان را می‌دهد که بدون نیاز به هر گونه لایه نشانی با یک مرحله لیتوگرافی و پس از آن زدایش کروم یک ماسک مناسب برای لیتوگرافی نوری ایجاد گردد.
تجهیزات لیتوگرافی عموما شامل منبع تولید نور، سامانه کنترل پرتو نور، سامانه تصویر برداری نوری و فتوماسک است. لیزر‌های اگزایمر با طول موج 248 نانومتر امروزه به عنوان منابع تابش در تولید انبوه چیپ‌ها استفاده می‌گردند .فتوماسک شیشه شات با دو پوشش فتورزیست و کروم این امکان را می‌دهد که بدون نیاز به هر گونه لایه نشانی با یک مرحله لیتوگرافی و پس از آن زدایش کروم یک ماسک مناسب برای لیتوگرافی نوری ایجاد گردد.
0دیدگاه