DRIE(زدایش عمودی سیلیکون)

این سیستم شامل محفظه خلا، پمپ‌های مکانیکی و روتز، منبع توان فرکانس رادیویی برای ایجاد پلاسما، شبکه تطبیق امپدانس برای انواع مختلف گاز‌ها و مقادیر گوناگون، کنترل کننده گاز ورودی(MFC) و برنامه دیجیتال و کنترل کاملا اتوماتیک برای کاربر است. این سامانه دارای یک فرایند جدید و بهبود یافته نسبت به نمونه‌های خارجی است که در بسیاری از آزمایشگاه‌ها و پژوهشگاه‌های تحقیقاتی مرتبط با نانوالکترونیک و افرازه‌های نیمه هادی کاربرد دارد. هم اکنون تحقیق بر روی سامانه ICP-DRIE که از احاظ سرعت و دقت به مراتب نسبت به سامانه فعلی بهبود یافته است ادامه دارد.دلیل برتری این سامانه وجود پلاسمای القایی در سیستم بوده که موجب افزایش سرعت و انرژی مولفه فیزیکی می گردد.